任何事物都具有兩重性，同樣在了解等離子體清洗技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，還應了解它的不足，及使用中存在的問(wèn)題，等離子體清洗在應用中確實(shí)存在一些制約因素，主要表現在一下幾點(diǎn)：

　　1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現尤為明顯。

　　2.實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著(zhù)在物體表面的油垢有很好的效果，但是對厚油垢的清除效果往往不佳，一方面用它清除油膜，必須延長(cháng)處理時(shí)間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過(guò)程中，引發(fā)油垢分子結構中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等復雜反應而形成較堅硬的樹(shù)脂化立體網(wǎng)狀結構有關(guān)。一旦形成這類(lèi)樹(shù)脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。

　　3.在應用過(guò)程中還發(fā)現不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現的一種污染物。等離子體清洗也不完全不能用于出去指紋，但這需要延長(cháng)處理時(shí)間，這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì )對基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預處理相配合。結果使清洗工藝過(guò)程復雜化。

　　4.由于等離子體清洗過(guò)程需要進(jìn)行真空處理，而且一般為在線(xiàn)為在線(xiàn)或批量生產(chǎn)，因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線(xiàn)時(shí)，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問(wèn)題，特別是當被處理工件體積較大，數量較多更應考慮到這個(gè)問(wèn)題。

　　綜上所訴可知：等離子體清洗技術(shù)適用于對物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰速決”的在線(xiàn)或批量清洗。